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아래와 같이 콜로퀴움을 개최하오니 많이 참석해 주시기 바랍니다. .


4시 20분부터 제1과학관 31214 e+강의실에서 간단한 다과를 제공합니다.


아 래


Title: Trend and beyond of semiconductor technology (반도체 미세화 및 신기술 동향)


Speaker:     석 교수님 (Tokyo Institute of Technology, '88동문 )


Date & Time: May 10. (Wed.) 2017, 4:30 PM


Place: Natural Science 1,  Room No. 31214


Abstract: 반도체 산업은 회로 미세화에 따른 집적도 및 성능 향상, 그리고 실리콘 웨이퍼의 대구경화에 의한 비용 절감 효과를 누리면서 성장해 왔다. 특히 소자의 미세화는 MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) scaling 이라는 법칙에 따라 한 세대당 0.7배 축소함으로써 전력 밀도는 전 세대와 같으면서 트랜지스터의 밀도는 2, 동작 주파수는 1.4배 향상된 LSI가 실현 가능했다. 하지만 막대한 개발 투자비의 증가와 기술적 한계가 대두하기 시작하면서 반도체 산업은 큰 전환기를 맞이하게 되었다. 이러한 배경으로 웨이퍼의 대구경화, 신메모리 디바이스, 3차원 적층 디바이스등 미세화 일변도에서 벗어난 움직임이 활발해지고 있다. 본 강연에서는 지금까지의 반도체 산업의 역사와 기술 동향에 관해 설명을 하고, 새로운 기술로 주목을 받는 3차원 적층 디바이스 기술의 가능성에 관해 설명한다.

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