아래와 같이 콜로퀴움을 개최하오니 많이 참석해 주시기 바랍니다.

4시 20분부터 제1과학관 31214 e+강의실에서 다과를 준비하오니 많은 참석 부탁드립니다.

아 래

Title: 플라즈마를 이용한 표면처리 기술

Speaker: 조  용   기  박사님  (한국생산기술연구원)

Date & Time: May 4(Wed.) 2016, 4:30 PM

Place: Natural Science 1,  Room No. 31214

Abstract: 습식과 건식방식의 표면처리는 반도체, 자동차, 전기전자, 기계부품의 기능 구현 및 내구성 향상에 없어서는 안 되는 요소 기술이다. 이중 건식방법의 표면처리는 열에너지나 플라즈마에너지를 활용하는 기술로 반도체의 배선, 태양전지, 자동차 엔진부품, 금형 등에 금속이나 세라믹 박막의 형성기술로 적용되고 있다. 플라즈마는 태양과 같은 높은 에너지상태에서부터 한정된 공간 내에서 발생되는 낮은 에너지 상태의 저온 플라즈마까지 밀도와 에너지 상태에 따라 다양하다. 표면처리기술에 적용되고 있는 플라즈마의 형태는 전자의 온도는 높으나 기체의 온도는 낮은 저온 플라즈마로서 한정된 영역 내에서 부분적으로 입자가 이온화된 상태이다. 저온 플라즈마를 만들기 위해서는 압력을 낮출 수 있는 감압장치가 필요하고, 감압되어 적은 수의 기체를 전자와 충돌시킴으로서 기체의 여기 및 이온화를 유도할 수 있다. 저온 플라즈마를 이용하는 기술로 스퍼터링법이나 이온플레이팅법이 있으며 전자충돌을 통한 여기 및 이온화를 유도하고 반응에너지를 낮게 하는 화학기상증착법과 확산침투법이 있다. 또한 유전체를 이용한 대기압 방전이나 전해질 용액 속에 아크 플라즈마를 만드는 기술 등 다양한 방법이 있다.